В России планируют разработать собственный литограф для норм 90 нм

В 2026 году в России планируется начать разработку литографического оборудования для производства микросхем по технологии 90 нанометров. Об этом сообщил заместитель министра промышленности Василий Шпак на XXI отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности, которая состоялась 20 марта, как передает CNews. Исполнитель проекта будет выбран на конкурсной основе.

Одним из потенциальных участников проекта может стать Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), который уже занимается разработкой литографов на 350 и 130 нанометров в сотрудничестве с белорусской компанией «Планар». Однако в ЗНТЦ пока не приняли окончательное решение об участии в новом конкурсе, поскольку они планируют завершить разработку 130-нм степпера к ноябрю 2026 года.

По мнению экспертов, создание 90-нм литографа на основе уже существующей платформы может занять от двух до четырех лет и потребовать инвестиций в сотни миллионов долларов. Основные трудности связаны не только с разработкой самого оборудования, но и с доступностью необходимых компонентов, таких как оптика, фотошаблоны, материалы и инженерные навыки.

На данный момент в России завершена разработка литографа на 350 нанометров, и продолжается работа над установкой для производства чипов по технологии 130 нанометров. Ожидается, что стоимость такой установки составит около 6 миллионов долларов и она будет способна производить от 100 до 140 пластин в час.

Источник